专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种图形电镀铜槽过滤装置-CN202121230354.7有效
  • 曹恒海;王冠 - 天津市精美特表面技术有限公司
  • 2021-06-03 - 2022-01-18 - B01D29/50
  • 本实用新型公开了一种图形电镀铜槽过滤装置,包括底板、顶板、立柱、水泵、第一出水管、滤筒、滤芯、顶盖、滤筒出水管、阀门a、第二出水管、阀门b、图形电镀铜槽进水管、图形电镀铜槽、图形电镀铜槽出水管、过滤桶、过滤网、过滤桶出水管、阀门c,所述滤筒内安装有所述滤芯,所述滤筒与所述滤筒出水管接通,所述滤筒出水管连接所述图形电镀铜槽进水管,所述图形电镀铜槽进水管连接所述图形电镀铜槽,所述图形电镀铜槽底部连接所述图形电镀铜槽出水管,所述图形电镀铜槽出水管连接所述过滤桶,所述过滤桶底部连接所述过滤桶出水管,整体结构较为简单合理,循环清洗效果较好,便于工作和保养。
  • 一种图形镀铜过滤装置
  • [发明专利]图形形成法-CN96108243.7无效
  • 李相均 - 三星航空产业株式会社
  • 1996-07-18 - 2004-04-28 - C23F1/02
  • 一种图形形成法包括下列工序:在基板上形成不溶于刻蚀溶液的金属电镀薄膜;在电镀薄膜上形成光致抗蚀薄膜;用预定的光掩模图形将光致抗蚀薄膜曝光然后显影,由此制取光致抗蚀图形;用光致抗蚀图形作为掩模制取电镀薄膜图形;完全清除光致抗蚀图形;用电镀薄膜图形作为刻蚀掩模刻蚀基片,然后完全清除电镀薄膜图形。本发明由于用电镀薄膜图形代替了光致抗蚀图形作为基片刻蚀工序中的刻蚀掩模,故可准确精密加工引线框架。
  • 图形形成
  • [发明专利]一种PCB生产工艺中图形电镀陪镀板的设计和使用方法-CN201911337262.6有效
  • 冉兵;刘锡恩;张健 - 沪士电子股份有限公司
  • 2019-12-23 - 2021-10-08 - H05K3/00
  • 本发明公开了PCB图形电镀技术领域的一种PCB生产工艺中图形电镀陪镀板的设计和使用方法,旨在解决现有技术中在图形电镀的过程中陪镀板设计和使用不合理,造成的工作效率低,电镀质量难以保证的技术问题,确定陪镀板的尺寸范围;确定陪镀板的残铜率;在确定了尺寸和残铜率的陪镀板上进行图形设计。确定PCB图形电镀的有效窗口率;根据PCB图形电镀的有效窗口率设置陪镀板;将PCB与一定数量的陪镀板一起进行图形电镀;对图形电镀后的陪镀板进行清理;将清理后的陪镀板重复循环使用。本发明提出图形电镀有效窗口率的概念,通过设计制作可重复利用的陪镀板,降低了生产成本,提高了劳动效率和电镀质量。
  • 一种pcb生产工艺图形电镀陪镀板设计使用方法
  • [发明专利]一种精确控制镀层厚度的电镀方法-CN202110685012.2在审
  • 王功;王旭阳;李雪征;李俊慧;冯亚丽;郭育梅;贾赫 - 北京世维通科技股份有限公司
  • 2021-06-21 - 2021-09-17 - C25D5/02
  • 本发明公开一种精确控制镀层厚度的电镀方法,包括:在待镀基板上制作图形化种子层;根据无图形种子层上电镀得到的电极厚度分布梯度,将待镀基板上的图形化种子层划分为至少两个独立区域,每一个独立区域对应于一个厚度区间的分布区域;在待镀基板和图形化种子层上制作电镀掩膜图形;在带有电镀掩膜图形图形化种子层的待镀基板上的针对不同独立区域按顺序依次电镀金属层,形成金属电极。上述方案,根据无图形种子层上电镀得到的电极厚度分布梯度,将待镀基板上的图形化种子层划分为至少两个独立区域,针对不同独立区域分别进行电镀控制,从而使不同独立区域电镀得到的金属层的厚度满足需要,使最终得到的金属电极的不同区域的厚度得到精确控制
  • 一种精确控制镀层厚度电镀方法
  • [发明专利]一种电镀方法-CN202110685013.7有效
  • 王旭阳;李雪征;李俊慧;冯亚丽;郭育梅;贾赫 - 北京世维通科技股份有限公司
  • 2021-06-21 - 2022-11-08 - C25D5/02
  • 本发明公开了一种电镀方法,包括如下步骤:在待镀基板上制作图形化导电种子层;在所述待镀基板和所述图形化导电种子层上制作电镀掩膜图形,所述电镀掩膜图形的凹槽图形对应于需要加厚的部分;在所述电镀掩膜图形的所述凹槽图形内填充金属材料,得到加厚金属图形。采用本发明提供的上述方案,图形化导电种子层需要加厚的位置上方形成有凹槽图形,在凹槽图形中填充金属形成的金属线与图形化导电种子层直接相连,直接增加了该部分的导电元件的厚度,如此能够在电镀时依据厚度要求精确控制局部镀层厚度能够精确控制局部镀层厚度
  • 一种电镀方法
  • [发明专利]一种电路板无引线电镀金方法及系统-CN202010154877.1有效
  • 宋玉娜 - 苏州浪潮智能科技有限公司
  • 2020-03-08 - 2021-09-14 - H05K3/18
  • 本发明提供一种电路板无引线电镀金方法及系统,包括:根据电路板设计图形查找与电镀金目标图形导通的图形,并将查找到的图形作为辅助图形;在所述辅助图形对应的电路板区域与接地图形对应的电路板区域之间设置引线;对目标图形对应的电路板区域进行电镀金;拆除辅助图形的对应电路板区域与接地图形的对应电路板区域之间的引线。本发明通过特殊的电镀金引线添加方法及调整生产加工流程实现了局部电镀金加工,且解决了业界目前存在的悬金问题,提升了电路板可靠性。
  • 一种电路板引线镀金方法系统
  • [实用新型]图形电镀铜槽过滤系统-CN201621047698.3有效
  • 马卓;李成 - 深圳市迅捷兴科技股份有限公司
  • 2016-09-09 - 2017-05-10 - C25D21/06
  • 本实用新型提供了一种图形电镀铜槽过滤系统,包括图形电镀铜槽、图形电镀水洗槽和过滤泵,其中,过滤泵的入口通过第一进水管路与图形电镀铜槽连接、并通过第二进水管路与图形电镀水洗槽连接;过滤泵的出口通过第一出水管路与图形电镀铜槽连接、并通过第二出水管路与图形电镀水洗槽连接;第一进水管路、第二进水管路、第一出水管路、第二出水管路上均分别安装有一个阀门。
  • 图形镀铜过滤系统
  • [发明专利]用于超薄石英基片薄膜电路的图形电镀方法-CN201410698402.3有效
  • 王凯;吴恒奎 - 中国电子科技集团公司第四十一研究所
  • 2014-11-26 - 2015-03-25 - H01L21/768
  • 本发明提供一种用于超薄石英基片薄膜电路的图形电镀方法,包括:将承载基片的上表面局部制备金属薄膜区作为电镀连通区;将超薄石英基片上表面制备金属薄膜作为待图形电镀面,与承载基片形成临时键合体;在待图形电镀面上形成键合区和图形化光刻胶区,将该键合区与电镀连通区通过金丝导通;电镀加厚金属电极层和保护金属层;去除所述金丝,将图形化光刻胶剥离干净,保护所述电镀连通区,将未电镀加厚区域的金属层刻蚀干净,再去除所述保护金属层;将所述超薄石英基片与所述承载基片分离采用上述方案,可以在超薄石英基片上进行高精度线宽/线间距薄膜电路图形电镀操作,而且导带尺寸能够精确控制,工艺简单易行,成本低廉,良品率高。
  • 用于超薄石英薄膜电路图形电镀方法
  • [发明专利]一种高纵横比线路板的电镀方法-CN202210320609.1在审
  • 刘继承;邹乾坤;李强 - 广东骏亚电子科技股份有限公司
  • 2022-03-29 - 2022-05-27 - H05K3/42
  • 本发明公开了一种高纵横比线路板的电镀方法,涉及线路板电镀技术领域,针对现有的电镀方法存在的易导致孔壁表面铜层厚度不均匀,表面不平整,造成材料的浪费,且电镀的精确度低的问题,现提出如下方案,所述高纵横比线路板的电镀方法步骤如下:S1、开料:根据图形尺寸开出备料;S2、材料预处理:对备料进行清洗、烘干;S3、图形转移:对线路板线路进行图形转移;S4、曝光:曝光制版;S5、显影:显示线路板上的线路图形;S6、电镀:对线路板进行图形电镀;S7、蚀刻:对线路板进行图形蚀刻;S8、脱模:将保护膜去除。该高纵横比线路板的电镀方法操作简单,电镀导电性能强,电镀的均匀度和精确度高,适用范围广,生产效率高。
  • 一种纵横线路板电镀方法
  • [发明专利]氮化镓基垂直结构发光二极管转移衬底的二次电镀方法-CN201010251510.8有效
  • 汪炼成;郭恩卿;刘志强;伊晓燕;王国宏 - 中国科学院半导体研究所
  • 2010-08-11 - 2011-02-16 - C25D5/10
  • 一种氮化镓基垂直结构发光二极管转移衬底的二次电镀方法,包括:选择一外延结构,该外延结构包括蓝宝石衬底和氮化镓LED层;在氮化镓LED层上采用电镀方法制作一次电镀层;对一次电镀层进行减薄抛光处理,使其表面光亮平整;用激光刻划方法在一次电镀层的表面上制作激光刻划图形,作为光刻对准标记;运用光刻方法,通过前烘,匀胶,曝光,显影,坚膜,在一次电镀层上形成光刻胶图形,该光刻胶图形覆盖一次电镀层周边部分面积;继续电镀,在一次电镀层和光刻胶图形上制作二次电镀层;剥离光刻胶图形的光刻胶,裸露出光刻胶图形下的一次电镀层,该一次电镀层和二次电镀层构成氮化镓基垂直结构发光二极管的转移衬底;清洗吹干,完成垂直结构发光二极管转移衬底的制作。
  • 氮化垂直结构发光二极管转移衬底二次电镀方法

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